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　　美(měi)光公司在华销售的产品未(wèi)通过网络安全审查

　　据(jù)网(wǎng)信办消息，日前，网(wǎng)络安全(quán)审查办公(gōng)室依(yī)法对美光公(gōng)司在华销售(shòu)产品进行了网(wǎng)络安全审查。

　　审查(chá)发现，美光公(gōng)司产品存在较严重网络安全问题隐(yǐn)患，对我(wǒ)国关(guān)键信息基础设施(shī)供应链(liàn)造成(chéng)重大安全风(fēng)险，影响我国国家(jiā)安全。为此，网络安全审查办公(gōng)室(shì)依(yī)法作(zuò)出不予通过网络(luò)安全审查的(de)结论。按照《网(wǎng)络安全法》等法律法规，我国(guó)内关键(jiàn)信息基础设施(shī)的运营者(zhě)应停止采购美(měi)光公司(sī)产品。

　　此次对美光公司产品进(jìn)行网络安全审(shěn)查，目(mù)的是防范(fàn)产品网络安全问题(tí)危害国家关键信息基础(chǔ)设施安全，是(shì)维(wéi)护国家安青金石的五行属性，青金石的五行属性是什么(ān)全的(de)必要措施。中国坚定推进高(gāo)水(shuǐ)平对外开放，只要遵守中国(g青金石的五行属性，青金石的五行属性是什么uó)法(fǎ)律法规(guī)要(yào)求，欢迎各(gè)国企业(yè)、各类平台产品服务进入中国市场。

　　3月31日，中国网(wǎng)信网发文称，为保(bǎo)障关键信(xìn)息基础设施供应(yīng)链(liàn)安全，防范产品问题(tí)隐患造成网络(luò)安全风险，维(wéi)护(hù)国家安(ān)全，依据《中华人民共和国国家安(ān)全法(fǎ)》《中华人民(mín)共(gòng)和(hé)国网络安(ān)全(quán)法(fǎ)》，网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室按照(zhào)《网(wǎng)络(luò)安全审查办法》，对美(měi)光公司(sī)（Micron）在华销售(shòu)的产品实施网(wǎng)络安全(quán)审查。

　　美光(guāng)是美国(guó)的存储芯片行业龙(lóng)头，也是(shì)全球(qiú)存储芯片巨头之一，2022年(nián)收入来自中国市场收(shōu)入(rù)从此前高峰(fēng)57％降至2022年约(yuē)11％。根据市(shì)场咨询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西(xī)部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约(yuē)为 96.76％，三(sān)星电子、 SK 海力士、美(měi)光在(zài)全球 DRAM （内存(cún)）市场(chǎng)份额约为 94.35％。

　　A股上市公(gōng)司中，江波龙、佰维(wéi)存储等公司披露过美光等国际(jì)存储(chǔ)厂商为公(gōng)司供应商。

　　美光在(zài)江波(bō)龙采购(gòu)占比已经显著下降，至(zhì)少已经(jīng)不是(shì)主要大供应商。

　　公告显(xiǎn)示， 2021年美(měi)光(guāng)位(wèi)列江波(bō)龙第一大存储(chǔ)晶(jīng)圆供(gōng)应商，采购(gòu)约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三大供(gōng)应商采购金(jīn)额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目(mù)前江波龙已经(jīng)在存储产业链上下游建立国内外(wài)广泛合作(zuò)。2022年年(nián)报显示，江波龙与三星(xīng)、美(měi)光、西部数(shù)据(jù)等主要存储晶圆原厂签署了长期(qī)合约，确保(bǎo)存储晶圆供应(yīng)的稳定性，巩固公(gōng)司在下游市(shì)场(chǎng)的供应优(yōu)势，公(gōng)司也与国内(nèi)国产(chǎn)存(cún)储晶圆原厂(chǎng)武汉长江存储、合肥长鑫保持良好的合作。

　　有券商此前就分析，如果美(měi)光在中国区销售受到限(xiàn)制，或将导致下游客(kè)户转(zhuǎn)而采购国外三星、 SK海力士，国内长江(jiāng)存储、长鑫(xīn)存储(chǔ)等竞对(duì)产品

　　分析称，长存、长鑫的上游设备厂或(huò)从中受(shòu)益(yì)。存(cún)储器的生(shēng)产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现(xiàn)在(zài)已经进入(rù)3D NAND时代，2 维到3维的结(jié)构(gòu)转变使刻(kè)蚀和(hé)薄膜成(chéng)为(wèi)最关键、最大(dà)量的(de)加工设备。3D NAND每(měi)层均需要经(jīng)过薄(báo)膜沉积工(gōng)艺步骤，同时刻(kè)蚀目前前沿要刻到 60：1的深孔，未青金石的五行属性，青金石的五行属性是什么(wèi)来(lái)可能会(huì)更(gèng)深(shēn)的孔或者沟槽，催(cuī)生更多设备需求(qiú)。据东京电子披露，薄(báo)膜沉(chén)积设备及刻(kè)蚀占3D NAND产线资本开支合计(jì)为75％。自长江(jiāng)存(cún)储被(bèi)加入美国限制名单，设备国产化(huà)进(jìn)程加(jiā)速，看好拓(tuò)荆科技（薄膜沉积）等相关公司(sī)份额提升，以及存储业务占比较高(gāo)的华海清科（CMP）、盛美上海（清(qīng)洗(xǐ)）等(děng)收入增长。

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